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醫(yī)藥乳膏超高速均質膠體磨

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乳膏劑的制備方法與軟膏劑基本相同，但必須在清潔、滅菌的環(huán)境下進行，嚴防微生物的污染。 乳膏中的藥物，能溶于基質或基質組分者可制成溶液性乳膏劑；不溶性藥物應先研成極細粉末，將藥粉與少量基質或液狀石蠟研成糊狀，再與基質混合制成混懸型乳膏劑。一般先制備乳膏基質，然后采用適宜方法加入藥物，制成乳膏劑。乳膏劑的基質應過濾并除菌，不溶性 物應預先制成極細粉。

一種乳膏的制備方法，包括以下步驟：

制得的濾液I、濾液II與步驟⑵制得的濾汁混合均勾，然后將其 噴霧干燥，得到混合藥粉；

將白茅根用武火炒至其表面焦黑色，取出涼透后與蛇床子混合進行超微粉碎， 并過625目篩，收集所得篩下物；

將蘆薈凝膠在攪拌條件下加入步驟（3)制得的混合藥粉、步驟（4)所得的篩下 物、鼠尾草精油、天然和透明質酸，充分混合，攪拌均勻后包裝、滅菌，即得所述治療麥 粒腫的乳膏。

太倉希德膠體磨

膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。

XM2000系列膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。XM2000膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。膠體磨的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。     依肯公司另外一項 的創(chuàng)新，就是錐體磨XMO2000系列，它的設計使其功能在原有的XM2000的基礎上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，XMD2000能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨XM2000還小。研磨間隙可以無級調節(jié)，從而可以得到 的研磨參數(shù)。

研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和 的粒徑大小都比膠體磨M的效果 加理想。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考：

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