欧美人与牲动交xxxx,国产av无码专区亚洲av,日韩成人一区二区三区在线观看

金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備

熱蒸發(fā)是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡(jiǎn)單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機(jī)和無(wú)機(jī)薄膜，其中以電阻式加熱法常見(jiàn)的。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為它們可以提供一種簡(jiǎn)單的薄膜沉積方法，以電流通過(guò)其容納材料的舟為方式，從而加熱材料。當(dāng)沉積材料的蒸氣壓超過(guò)真空室的溫度時(shí)，材料將開(kāi)始蒸發(fā)並沉積到基板上。

SYSKEY金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備的熱蒸發(fā)可以精準(zhǔn)的控制蒸發(fā)速度，且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3％。

離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度，並且離子源在材料沉積過(guò)程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。

應(yīng)用領(lǐng)域	腔體
金屬材料研究。奈米薄膜。太陽(yáng)能電池。	客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應(yīng)用。寬大的前開(kāi)式門(mén)，並有兩個(gè)視窗和視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。腔體的極限真空度約為10^-8 Torr。
配置和優(yōu)點(diǎn)	選件
客製化的基板尺寸，直徑為12寸晶圓或470 x 370 mm²(玻璃)。寬大的前開(kāi)式門(mén)，並有兩個(gè)視窗和視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。具有順序操作或共沉積的多個(gè)蒸發(fā)源。基板可加熱到800°C。利用載臺(tái)旋轉(zhuǎn)來(lái)改善薄膜沉積之品質(zhì)。基板至蒸發(fā)源之間距為可調(diào)式的。每個(gè)蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。	可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。結(jié)合離子源、濺鍍槍、電子束、等離子清潔...。基板冷卻。殘留氣體分析儀。